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  • HCWP-S高低溫介電溫譜測(cè)試儀器
    HCWP-S高低溫介電溫譜測(cè)試儀器

    更新時(shí)間:2024-12-08

    型號(hào):HCWP-S

    瀏覽量:3339

    高低溫介電溫譜測(cè)試儀器適用于鐵電壓電陶瓷材料、各種金屬氧化物,板材,瓷器(陶器),云母,玻璃半導(dǎo)體器件及功能薄膜材料等研究。 用于分析寬頻、高低溫條件下被測(cè)樣品的介電系數(shù)、阻抗Z、電抗X、導(dǎo)納Y、電導(dǎo)G、電納B、電感L、介電損耗D、因數(shù)Q等物理量。該儀器用于科研機(jī)關(guān)、學(xué)校、工廠等單位對(duì)無(wú)機(jī)金屬新材料的應(yīng)用研究科研機(jī)關(guān)、高校、工廠等地方。
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  • HCRD-300電弱點(diǎn)測(cè)試儀器
    HCRD-300電弱點(diǎn)測(cè)試儀器

    更新時(shí)間:2024-12-16

    型號(hào):HCRD-300

    瀏覽量:2172

    電弱點(diǎn)測(cè)試儀器主要用于電容器用聚脂薄膜、聚丙稀薄膜的電弱點(diǎn)測(cè)試。該系列產(chǎn)品的主要特點(diǎn)是能根據(jù)薄膜的使用寬度進(jìn)行電弱點(diǎn)的測(cè)試,測(cè)試寬度可根據(jù)用戶的要求而設(shè)定,無(wú)須將膜分切成小卷,免除了許多外來(lái)因素對(duì)測(cè)試結(jié)果的影響。測(cè)試數(shù)據(jù)能真實(shí)地反映薄膜的質(zhì)量水平。
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  • HCWP系列高溫介電溫譜試驗(yàn)儀
    HCWP系列高溫介電溫譜試驗(yàn)儀

    更新時(shí)間:2024-06-04

    型號(hào):HCWP系列

    瀏覽量:3109

    高溫介電溫譜試驗(yàn)儀主要用于絕緣材料在不同溫度不同頻率下的電學(xué)測(cè)試,系統(tǒng)包含高溫爐膛,阻抗分析儀,微電流表,夾具,測(cè)試軟件于一體,可測(cè)試材料的介電常數(shù),介質(zhì)損耗,阻抗譜Co-Co圖,機(jī)電耦合系數(shù)等,同時(shí)可分析被測(cè)樣品隨溫度,頻率,時(shí)間變化的曲線,測(cè)試治具可以根據(jù)產(chǎn)品及測(cè)試項(xiàng)目要求選購(gòu)。
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  • HCLD-III*電子電工漏電起痕試驗(yàn)機(jī)測(cè)試儀器
    HCLD-III*電子電工漏電起痕試驗(yàn)機(jī)測(cè)試儀器

    更新時(shí)間:2024-12-19

    型號(hào):HCLD-III

    瀏覽量:1692

    *電子電工漏電起痕試驗(yàn)機(jī)測(cè)試儀器HCLD-III為華測(cè)公司2013年重點(diǎn)科研產(chǎn)品之一,高壓漏電試驗(yàn)儀采用控制系統(tǒng)精度高,擯棄了現(xiàn)有的低壓切斷原原理,采用*的高壓真空切斷技術(shù),使試驗(yàn)過程合理。采用5組電流傳感器用以控制每組試驗(yàn)的高壓切斷,使數(shù)據(jù)采集精確,同時(shí)本設(shè)備采用電力系統(tǒng)過壓過流保護(hù)裝置,使儀器。
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  • HCLD-III產(chǎn)品*漏電起痕測(cè)試儀器
    HCLD-III產(chǎn)品*漏電起痕測(cè)試儀器

    更新時(shí)間:2024-06-05

    型號(hào):HCLD-III

    瀏覽量:1659

    產(chǎn)品*漏電起痕測(cè)試儀器HCLD-III采用控制系統(tǒng)精度高,擯棄了現(xiàn)有的低壓切斷原原理,采用*的高壓真空切斷技術(shù),使試驗(yàn)過程合理。采用5組電流傳感器用以控制每組試驗(yàn)的高壓切斷,使數(shù)據(jù)采集精確,同時(shí)本設(shè)備采用電力系統(tǒng)過壓過流保護(hù)裝置,使儀器an全。
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  • HCLD-III產(chǎn)品*電氣絕緣材料漏電起痕試驗(yàn)機(jī)
    HCLD-III產(chǎn)品*電氣絕緣材料漏電起痕試驗(yàn)機(jī)

    更新時(shí)間:2024-06-05

    型號(hào):HCLD-III

    瀏覽量:1725

    產(chǎn)品*電氣絕緣材料漏電起痕試驗(yàn)機(jī)HCLD-III為華測(cè)公司2013年重點(diǎn)科研產(chǎn)品之一,高壓漏電試驗(yàn)儀采用控制系統(tǒng)精度高,擯棄了現(xiàn)有的低壓切斷原原理,采用*的高壓真空切斷技術(shù),使試驗(yàn)過程合理。采用5組電流傳感器用以控制每組試驗(yàn)的高壓切斷,使數(shù)據(jù)采集精確,同時(shí)本設(shè)備采用電力系統(tǒng)過壓過流保護(hù)裝置,使儀器an全。
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  • HCLD-III產(chǎn)品*操作簡(jiǎn)單漏電起痕試驗(yàn)機(jī)測(cè)試儀器
    HCLD-III產(chǎn)品*操作簡(jiǎn)單漏電起痕試驗(yàn)機(jī)測(cè)試儀器

    更新時(shí)間:2023-08-29

    型號(hào):HCLD-III

    瀏覽量:1696

    產(chǎn)品*操作簡(jiǎn)單漏電起痕試驗(yàn)機(jī)測(cè)試儀器HCLD-III為華測(cè)公司2013年重點(diǎn)科研產(chǎn)品之一,高壓漏電試驗(yàn)儀采用控制系統(tǒng)精度高,擯棄了現(xiàn)有的低壓切斷原原理,采用高壓真空切斷技術(shù),使試驗(yàn)過程合理。采用5組電流傳感器用以控制每組試驗(yàn)的高壓切斷,使數(shù)據(jù)采集精確,同時(shí)本設(shè)備采用電力系統(tǒng)過壓過流保護(hù)裝置,使儀器。
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  • HCLD-III可靠漏電起痕試驗(yàn)儀優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品供應(yīng)測(cè)試儀器
    HCLD-III可靠漏電起痕試驗(yàn)儀優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品供應(yīng)測(cè)試儀器

    更新時(shí)間:2024-06-05

    型號(hào):HCLD-III

    瀏覽量:1762

    可靠漏電起痕試驗(yàn)儀優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品供應(yīng)測(cè)試儀器HCLD-III為華測(cè)公司2013年重點(diǎn)科研產(chǎn)品之一,高壓漏電試驗(yàn)儀采用控制系統(tǒng)精度高,擯棄了現(xiàn)有的低壓切斷原原理,采用高壓真空切斷技術(shù),使試驗(yàn)過程合理。采用5組電流傳感器用以控制每組試驗(yàn)的高壓切斷,使數(shù)據(jù)采集精確,同時(shí)本設(shè)備采用電力系統(tǒng)過壓過流保護(hù)裝置,使儀器an全。
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